图为所内配置的MLA 100 无掩模光刻仪

高精度无掩模激光直写仪(MLA100) (德国Heidelberg公司)可以将 AutoCAD的图形文件直接转化为控制激光扫描路径，加工各种复杂图形，而且可以根据不同的实验要求和结果随时调整图形设计，摆脱了传统工艺中掩模板的限制。

重要的技术指标：

1. 光源为365nm UV LED，适合各种光刻胶

2. 最大样品尺寸 150*150mm

3. 最小样品尺寸 5*5mm

4. 最大曝光面积 125*125mm

5. 最小线宽 1um

6. 线宽均匀性 200nm

7. 套刻精度 ≤1um

8. 直写速度 50mm²/min